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TGA-321高(gāo)精度痕量氣體分析儀
産品概述：
高(gāo)精度痕量氣體分析儀（TGA-321）是一款專爲半導體行業空(kōng)氣分子污染分析（AMC）測量氨氣(NH3)而設計(jì)的專業儀器，采用(yòng)光腔衰蕩光譜技術（CRDS），具有超高(gāo)的靈敏度，其檢測下(xià)限可達ppt級别。不需要現(xiàn)場校準，非常适合連續測量。 
分析儀内部管路都進行了(le)特殊塗層，可以有效的減小(xiǎo)氨氣(NH3)分子在管道(dào)壁上(shàng)的吸附，加速測量的響應時(shí)間并消除測量偏差。同時(shí)分析儀采用(yòng)小(xiǎo)體積腔設計(jì)，能(néng)夠進一步提升測量速度。 
光腔衰蕩光譜（CRDS）與離子遷移譜（IMS）和(hé)離子色譜傳統技術相比，具有探測下(xià)限低(dī)、響應時(shí)間快(kuài)、無需耗材等顯著優勢，該分析儀具有更優的長期穩定性和(hé)低(dī)維護性，是半導體行業AMC連續監測的理(lǐ)想選擇。
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産品概述 産品特點 應用(yòng)領域
産品概述
高(gāo)精度痕量氣體分析儀（TGA-321）是一款專爲半導體行業空(kōng)氣分子污染分析（AMC）測量氨氣(NH3)而設計(jì)的專業儀器，采用(yòng)光腔衰蕩光譜技術（CRDS），具有超高(gāo)的靈敏度，其檢測下(xià)限可達ppt級别。不需要現(xiàn)場校準，非常适合連續測量。 
分析儀内部管路都進行了(le)特殊塗層，可以有效的減小(xiǎo)氨氣(NH3)分子在管道(dào)壁上(shàng)的吸附，加速測量的響應時(shí)間并消除測量偏差。同時(shí)分析儀采用(yòng)小(xiǎo)體積腔設計(jì)，能(néng)夠進一步提升測量速度。 
光腔衰蕩光譜（CRDS）與離子遷移譜（IMS）和(hé)離子色譜傳統技術相比，具有探測下(xià)限低(dī)、響應時(shí)間快(kuài)、無需耗材等顯著優勢，該分析儀具有更優的長期穩定性和(hé)低(dī)維護性，是半導體行業AMC連續監測的理(lǐ)想選擇。
産品特點
（1）ppt級别的靈敏度、精度以及準确度 
（2）免标定，低(dī)漂移 
（3）響應時(shí)間快(kuài)
（4）連續監測 
（5）無耗材成本
應用(yòng)領域
半導體行業AMC連續監測、潔淨室監測、FOUP監測
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